光刻机被誉为半导体工业的“皇冠”，ASML则是这个皇冠的持有者。全世界最顶尖的EUV光刻机，目前只有ASML一家能够制造，这使得他的地位在长时间稳如磐石，难以动摇。
但经验不止一次地告诉我们，没有哪家企业是真正的常青树，早晚技术变革所带来的“洗牌”，会使这些企业跌下金字塔顶端。那么专属于ASML的那个时刻会是什么时候呢？有人说，已经快要来临了。
屠龙少年
ASML刚起家的时代，光刻机主导权还在日本手里。彼时，尼康和佳能等日企才是光刻机头部企业，掌握行业话语权。
那么，ASML是如何实现反超的呢？这就不得不提一个名叫“林本坚”的华人了。林本坚祖籍广东潮汕，越南出生，年轻人在美求学，误打误撞进入了半导体产业，在IBM一干就是22年。后来，他去往台积电，研发微影光刻技术。
2002年，光刻机面临着如何将波长从193nm推进到157nm的难题。林本坚站了出来，在一次研讨会上，他提出了可以使用浸润式光刻，用水作为介质，实现193nm到132nm的突破。这一全新的技术思路立马引起轰动，因为它不仅解决了原先的问题，还足足又往前推进了一代！
林本坚的技术虽然惊人，却不讨喜。因为它是基于浸润式光刻技术，而不是被尼康和佳能大量投资的干式光刻机技术。不过，ASML却看出来浸润式光刻技术的前景，转头和台积电合作，并于2003年研发出全球第一台浸润式光刻机。
从某个角度来说，不愿接受新技术的尼康，佳能们可以看作是因循守旧的恶龙，而ASML，台积电则是那个屠龙少年。故事的结局并不意外，屠龙少年获得胜利，ASML和台积电，一个成为光刻机龙头，一个成为代工龙头。
屠龙少年终成恶龙
因为美的恶意搅局，全球半导体产业链生态被破坏，各个地区和国家都开始将半导体自主提上日程。
光刻机作为重点环节，自然被“特殊照顾”。各种各样的新技术不断涌现，如此一来，守着EUV光刻机的ASML反而成为了新的恶龙。
日本铠侠使用全新的NIL（纳米压印微影）技术，绕过EUV光刻机，也可以将芯片制程推进到10nm以下，目前正在朝着5nm前进。这一技术相比于EUV光刻，成本低，使用设备便宜（EUV光刻机动辄上亿美元），能耗约是后者的1/10。
一旦这项技术成熟，将会大大降低芯片的生产成本，对ASML形成降维打击。
我国研发的光量子芯片，也实现了重大突破。据悉，光子具有超高信息容量，超低传输功耗和延时，超低信道干扰特性，以光作为信息传递的载体，不存在电子漂移现象，这就导致光量子芯片具有更加精准的操控精度，和更加稳定的运行能力以及更加持久的储存时间。
更重要的，光量子芯片对于EUV光刻机的依赖并不高，其一旦成为普及，EUV光刻机的必要性很快就会消失。
ASML能挺得住吗？
在各种各样的弯道超车技术被提出，并快速研发的时候，ASML显然已经被群狼包围了。那么，ASML能够挺得住吗？
很难，每一项全新的，具有更新换代意义的技术出现后，对于原先产业的摧毁，重塑是一个必经过程。就像ASML曾经作为屠龙少年，将尼康，佳能甩在身后一样。
当NIL，光量子芯片等技术开始普及应用的时候，没有丝毫优势的ASML当然会第一时间被淘汰掉。关键的问题是，谁能成为那个率先吃果子的人？
我们需要更大的努力。
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