在使用等离子清洗机时,不同的产品、不同的清洗要求,需要使用不同的配方进行清洗,我在使用时需要进行多次测试,找到合适的工艺参数进行生产。

等离子用得最广泛的气体(气体种类非常多)(1)

气体

如此多的气体的种类,哪些是等离子清洗机常用的呢?今天我们就聊聊哪些可以应用在等离子表面处理行业中。

氧气:主要清洗物体表面的有机物,发生氧化反应。例如,有机污染物可以有效地用氧气等离子去掉,这里氧气等离子与污染物反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水。

氩气:物理轰击是氩气清洗的机理。氩气是最有效的物理等离子体清洗气体,原因在于它原子的尺寸大。可以用很大的力量轰击样品表面。正的氩离子将被吸引到负向电极板。撞击力足以去除表面上的任何污垢。然后这些气态污物通过真空泵排出。

氮气:氮气电离形成的等离子体能够与部分分子结构发生键合反应,所以也是一种活性气体,但相对于氧气和氢气而言,其粒子比较重;在清洗活化的同时能够达到一定轰击、刻蚀的效果,同时能够防止部分金属表面出现氧化。

等离子用得最广泛的气体(气体种类非常多)(2)

等离子清洗机放电状态

氢气:氢气可供去除金属表面氧化物使用。 它经常与氩气混合使用,以提高去除速度。一般人们担心氢气的易燃性,氢气的使用量非常少。人们更大的担心是氢气的存储。我们可以采用氢气发生器从水中产生氢气。从而去掉了潜在的危害性。

CF4:氟化的气体在半导体工业以及PWB (印制线路板)工业 上应用非常广泛。在IC封装中的应用只有一种。这些气体用在PADS工艺中,通过这种处理,氧化物转化成氟氧化物,允许无流动焊接。

以上5种气体是等离子清洗机行业常用的工艺气体,当然在一些产品中还有其它气体的使用,应用的方式非常丰富,我们需要根据工艺、成本等多方面进行选择,获得好的等离子表面处理方案。

如果此文对您有所帮助,敬请点个赞或者关注一下,欢迎在下方评论区留言与我们互动进行等离子清洗机和低温等离子体的技术研讨,分享等离子表面处理工艺、原理及应用等相关知识。

,