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离子交换原理
离子交换是应用离子交换剂（最常见的是离子交换树脂）分离含电解质的液体混合物的过程。离子交换过程是液固两相间的传质（包括外扩散和内扩散）与化学反应（离子交换反应）...
2024-07-05 -
阳离子交换柱是什么
阳离子交换柱把一定比例的阳离子交换树脂混合装填于同一交换装置中，对流体中的离子进行交换、脱除。 离子交换柱也称混床。所谓的离子交换柱，就是把一定比例的阳、阴离子...
2024-07-05 -
离子交换树脂的作用有哪些
水处理行业离子交换树脂在水处理行业的需求量很大，约占离子交换树脂产量的90%，用于水中的各种阴阳离子的去除；离子交换树脂的最大消耗量是用在火力发电厂的纯水处理上...
2024-07-05 -
离子交换树脂介绍
离子交换树脂是带有官能团（有交换离子的活性基团）、具有网状结构、不溶性的高分子化合物。通常是球形颗粒物。离子交换树脂的全名称由分类名称、骨架（或基因）名称、基本...
2024-07-05 -
制取绿矾的方法
取3ɡ废铁于100ml烧杯，加10ml饱和碳酸钠溶液微热除去铁表面的油污，倾斜法倒去碱液，用蒸馏水洗涤3次除尽碳酸钠。往烧杯加入24ml硫酸，水浴（50-80℃...
2024-07-05 -
制取氧气的方法
固液常温型，利用过氧化氢（俗名：双氧水）与二氧化锰在常温下就能发生反应产生氧气而制得。查：利用装置内外气压相等，液体不回落的原理检查装置的气密性。装：取下橡胶塞...
2024-07-05 -
工业上制取氯气的方法
将饱和的氯化钠溶液倒入电解池中，用碳棒和电池连接并放入溶液中。通过电池的正负极来判断碳棒的阳极和阴极，与电池正极相连的是阳极与电池负极相连的是阴极，在阴极滴加无...
2024-07-05 -
制取氧气的三个化学方程式
制取氧气的三个化学方程式有：加热氯酸钾和二氧化锰2KClO3=2KCl+3O2↑（条件：MnO加热）加热高锰酸钾2KMnO4=K2MnO4+MnO2+O2↑（加...
2024-07-05 -
高锰酸钾制取氧气公式
实验室常用高锰酸钾制取氧气，高锰酸钾制取氧气的文字表达式为：高锰酸钾→(加热)锰酸钾+二氧化锰+氧气。组装仪器，并检查装置的气密性。检查装置的气密性的依据是连接...
2024-07-05 -
工业上制取氧气的方法
工业上一般采用分离液态空气法、膜分离技术、吸附法等制取氧气。电解制氧法。把水放入电解槽中，加入氢氧化钠或氢氧化钾以提高水的电解度，然后通入直流电，水就分解为氧气...
2024-07-05 -
制取乙酸乙酯加料顺序
先加乙醇，再加浓硫酸，最后加乙酸。因为相当于稀释浓硫酸，所以先加乙醇，后加浓硫酸，由于放出大量的热，乙醇和乙酸都容易挥发，但乙酸的价格更贵。所以，等温度降一下后...
2024-07-05 -
制取氧气的6种方法
物理法(工业法)。氧气的工业制法，它是利用氧气和氮气的沸点不同，来分离出氧气.具体步骤是：首先将空气净化除去杂质等，然后在高压低温的条件下，使空气液化，控制温度...
2024-07-05 -
加热高锰酸钾制取氧气
拿组装仪器，检查装置气密性，依据是连接好装置后将导管伸到水槽中，用手轻握试管，观察有无气泡产生，有气泡产生则表示气密性良好。先塞上一团棉花再放入高锰酸钾，避免加...
2024-07-05 -
制取乙烯的三种方法
实验室里是把酒精和浓硫bai酸按1：3混合迅速加热到170℃，使酒du精分解制得。浓硫zhi酸在反应过dao程里起催化剂和脱水剂的作用。 制取乙烯的反应属于...
2024-07-05 -
实验室制取氧气的方法
高锰酸钾制取氧气：步骤：查—装—定—点—收—离—熄。查——检查装置的气密性。装——装药品。定——把试管固定到铁架台上。点——点燃酒精灯加热(先预热，注意：一律先...
2024-07-05 -
高锰酸钾制取氧气化学式
化学方程式为：2KMnO=加热=KMnO+MnO+O↑。高锰酸钾制取氧气的文字表达式：高锰酸钾→(加热)锰酸钾+二氧化锰+氧气。高锰酸钾是一种强氧化剂，为黑紫色...
2024-07-05 -
实验室制取乙醛的方法
乙烯直接氧化法，乙烯和氧气通过含有氯化钯、氯化铜、盐酸及水的催化剂，一步直接氧化合成粗乙醛，然后经蒸馏得成品。乙醇氧化法，乙醇蒸气在三百到四百摄氏度以下，以银、...
2024-07-05 -
高锰酸钾制取氧气步骤
装配实验装置（试管内的导管稍伸出胶塞即可，便于气体导出）,检查装置的气密性。将药品平铺在试管底部，管口放一小团棉花（防止热的氧气流把高锰酸钾粉末吹入导管），用带...
2024-07-05 -
实验室制取二氧化碳的方法
实验室制取二氧化碳的方法：实验室制取二氧化碳，用大理石或石灰石与稀盐酸反应，它们的主要成分为碳酸钙，生成物有氯化钙、水和二氧化碳，方程式为：CaCO3+2HCl...
2024-07-05 -
什么硅可以制取半导体材料
高纯度。目前，人们已可制得纯度为14N（99.999999999999%）的硅材料，但只要达到10N，就可以满足大部分集成电路的需要了。单晶体。硅的单晶体是指具...
2024-07-05