简述石墨烯材料的各种表征方法(一种制造石墨烯片的新方法)(1)

石墨烯作为新型电子器件的材料以及其他用途的承诺已经导致世界各地的研究人员研究材料以寻找新的应用。但是,更广泛使用强度高,重量轻,高导电材料的最大局限之一是工业规模制造的障碍。

最初使用形成原子级网格的碳材料的工作只有一个原子厚度,它依赖于使用微小的薄片,通常通过快速从石墨块中移除一块胶带获得 - 高科技系统不适合制造。从那时起,焦点转移到在金属箔上制造石墨烯薄膜,但是研究人员在将石墨烯从箔转移到有用的基板方面面临困难。

现在,研究人员提出了一种生产石墨烯的方法,该方法可以通过直接在大片玻璃等材料上制造石墨烯来扩大规模。

目前,大多数制造石墨烯的方法首先在镍或铜等金属薄膜上生长,为了使它有用,你必须把它从金属上取下来,放到基片上,如硅片或聚合物片,或者像玻璃片那样的大片,但是转移它的过程比石墨烯本身的生长过程变得更加令人沮丧,并且可能损害和污染石墨烯。

新方法仍然使用金属薄膜作为模板 - 但不是只在金属薄膜上制作石墨烯,而是在薄膜的顶部和底部制作石墨烯。在这种情况下,衬底是二氧化硅,玻璃的一种形式,在其顶部具有镍膜。

利用化学气相沉积(CVD)在镍膜上沉积石墨烯层,不仅产生“镍层顶部的石墨烯”,而且还产生“底部的石墨烯”。然后可以剥离镍膜将石墨烯仅留在非金属基底上。

这样,就不需要单独的工艺将石墨烯附着到预期的基板上 - 无论是用于显示屏的大片玻璃板,还是可用作轻便便携式太阳能基础的薄而柔性的材料细胞,例如,你在衬底上做CVD,用这种方法,石墨烯留在衬底上。

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