普达特科技10月12日在港交所发布公告称，公司按计划开展CVD（化学气相沉积）设备业务，初步向该业务投放1.4亿元人民币按计划，CVD产品的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备，公司预计该等CVD产品将于2024年进入商业生产阶段热CVD设备应用于半导体设备制造业薄膜沉积过程中，在该过程采用的产品中，发挥最关键的作用，今天小编就来聊一聊关于aet智能产业?接下来我们就一起去研究一下吧!
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普达特科技10月12日在港交所发布公告称，公司按计划开展CVD（化学气相沉积）设备业务，初步向该业务投放1.4亿元人民币。按计划，CVD产品的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备，公司预计该等CVD产品将于2024年进入商业生产阶段。热CVD设备应用于半导体设备制造业薄膜沉积过程中，在该过程采用的产品中，发挥最关键的作用。
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