近日,有媒体报道称,华为将在上海建立一条不使用美国技术的芯片厂,确保华为能在美国制裁下,仍有生产5G电信基础设施所需的芯片。

具体来说,这座芯片厂将由上海集成电路研发中心(ICRD)营运,内部设立了诸多目标:初期先试产45nm制程芯片;在2021年前生产28nm制程芯片,用于华为IoT设备如智能电视;在2022年前生产20nm支撑芯片,用于华为多数5G电信设备。

对于华为自建芯片生产线的努力,据《中国半导体论坛》报道,原工信部部长李毅中也在近日表示:“面对美方穷凶极恶的围剿,华为有志建立芯片制造线,我们应该给予支持。”

任正非华为光刻技术进展(在上海建芯片厂)(1)

对此,AI财经社获悉,此前,国内一家大型互联网公司拜访华为时,华为人士表达了自建芯片生产线的信息,并告知他从45nm制程做起。

另有芯片业内人士告诉AI财经社:ICRD在上海张江有一条中试线(正式量产之前的中等规模生产线),并非用于正式生产。该生产线由华虹控股,规模较小,洁净室面积只有2000平方米。

此前,华为也有芯片生产线。华为在武汉有一条化合物半导体生产线,用于光通信业务,但规模较小,只是4英寸或者6英寸线。此外,华为也有自己的封装线。

之前还有传闻称华为正自研光刻机。行业人士告诉AI财经社,华为从上海微电子装备(集团)股份有限公司挖工程师,这家企业从事光刻机研发。但尚不清楚这些工程师是参与华为自研光刻机项目,还是参与华为上述芯片生产线的光刻业务。(记者/牛耕 编辑/赵艳秋)

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