图为研究团队沉品均(左起)、吴志毅、周昂昇。
半导体新材料「铋」,有望突破「摩尔定律」极限
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台湾大学、台积电、美国麻省理工学院合作研究发现二维材料结合半金属“铋”能达极低电阻,接近量子极限,有助实现半导体达1纳米以下制程挑战,已发表于国际期刊「自然」(Nature)。
铋,是一种金属元素,元素符号为Bi,原子序数为83,位于元素周期表第六周期V A族。单质为银白色至粉红色的金属,质脆易粉碎,铋的化学性质较稳定。铋在自然界中以游离金属和矿物的形式存在。
以前铋被认为是相对原子质量最大的稳定元素,但在2003年,发现了铋有极其微弱的放射性,同时测定了它的半衰期长达1.9×1019年。这意味着或许在人类灭亡之前,铋也不会发生可见的衰变。
1 神 “铋” 材料
助力半导体产业迈向1纳米
目前半导体主流制程进展到5nm和3nm节点。
芯片单位面积能容纳的电晶体数目,已将逼近半导体主流材料「硅」的物理极限,芯片效能也无法再逐年显著提升。
近年科学界积极寻找能取代硅的二维材料,挑战1nm以下的制程,却苦于无法解决二维材料高电阻及低电流等问题。
台大,今天发出新闻稿,由电机系暨光电所教授吴志毅等人,与台湾积体电路、美国麻省理工学院等单位合作的研究,可望挑战物理极限,有助实现半导体1奈米以下的艰巨挑战。
图为研究团队沉品均(左起)、吴志毅、周昂昇。
三方合作流程:
1、这项研究先由麻省理工团队发现在二维材料上搭配半金属铋(Bi)的电极,能大幅降低电阻并提高传输电流。
2、随后由台积电技术研究部门将铋(Bi)沉积制程程优化。
3、台大团队则运用氦离子束微影系统(Helium-ion beam lithography)将元件通道成功缩小到纳米尺寸,共同获得突破性的研究成果。
台湾大学多少沾了MIT、TSMC的光。
吴志毅解释,使用铋为接触电极的关键结构后,二维材料电晶体的效能不但与硅基半导体相当,又有潜力与目前主流的硅基製程技术相容。
虽然目前还处于研究阶段,但此成果能替下世代芯片片提供省电、高速等绝佳条件,可望投入人工智能、电动车、疾病预测等新兴科技的应用中。
吴志毅表示,这次国际合作的前瞻性研究,大学实扮演非常重要的角色。完成的氦离子束微影系统,现放置于台大电机二馆,机器设备投入资金高达数千万元,全台湾仅此一座。研究团队也感谢科技部与台积电的支持,也非常乐意将研究成果回馈给国内产界。未来若能取得商用突破,将有助国内半导体及科技供应链,继续维持全球的领先地位。
台大指出,这项跨国合作于2019年展开,两名主要参与研究论文发表的年轻博士,都曾是台大光电所硕士生,其中美国麻省理工学院毕业的沉品均,为论文的第一作者与通讯作者。台大光电所教授吴志毅、博士周昂昇参与研究为论文的共同作者。
台积电:3nm、2nm、1nm没问题
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三星 IBM,与TSMC较量
抢占晶圆代工制高点
1、IBM:近日美国巨头IBM发布了全球首颗2nm芯片,并称是世界首创。采用的GAA晶体管工艺。
2、三星:今年IEEE ISSCC国际固态电路大会上,三星电子首次展示了其采用3nm工艺制造的芯片。三星3nm工艺试产成功的关键技术——GAA便是与IBM等共同合作的结果。
三星电子抢先台积电风险试产4nm和3nm芯
3、台积电:4nm、3nm制程芯片的试产预计在今年下半年展开。根据线路图,台积电在2nm才切入GAA晶体管技术。
三星电子多项先进制程逼近台积电,甚至提出了比台积电更快的目标。
在过去长达10多年的时间里,三星和台积电均采用了FinFET技术,完成了从28nm制程到7nm制程的过渡;但两者在进行5nm制程的开发中,FinFET对于高精度芯片的生产已达到了极限,从7nm到5nm的过渡已变得非常艰难。
三星率先采用MBCFEF技术来替代传统的FinFET技术,使得3nm制程芯片率先亮相。
早在2020年8月,IBM就官宣将由三星负责生产旗下最先进的7nm芯片。
最关键的是,IBM在美国纽约州奥尔巴尼保留的一个芯片制造研究中心,三星以及英特尔都是其芯片技术开发合作伙伴。
而且,三星3nm工艺试产成功的关键技术——GAA便是与IBM等共同合作的结果,并且,IBM的2nm工艺,也同样采用的是GAA的晶体管技术。
未来,IBM 三星 ≈ 台积电
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高阶制程玩家,三星、台积电、IBM...
组美国半导体联盟
5月11日,包括美国、欧洲、日本、韩国、中国台湾地区等地的64家企业宣布成立美国半导体联盟(Semiconductors in America Coalition,SIAC)。
这些企业几乎覆盖整个半导体产业链,而他们组织在一起的第一件事,就是敦促美国国会通过拜登政府上个月提出的500亿美元半导体激励计划。
SAIC官网「成员」页的部分截图
目前,SIAC中的64家成员包括亚马逊、苹果、AT&T、思科、通用电气、谷歌、威瑞森等科技巨头,AMD、亚德诺半导体、博通、英伟达、高通等芯片设计公司,格芯、IBM、英特尔、镁光等芯片制造商,以及应用材料、楷登电子、新思科技等半导体上游IP、电子设计自动化(EDA)软件和设备供应商等等。
半导体“排华” ?美欧日韩台等64家企业组半导体联盟!
下为具体65家企业名单(英文)
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美国的未来取决于半导体
晶圆厂成本高20%-40%,反对优先汽车芯片供应
SIAC新闻稿说了啥?
SIAC新闻稿表示,该联盟的重点是为《美国芯片制造法案》(CHIPS for America Act)争取资金,该法案在今年早些时候公布,批准了美国所需的半导体制造激励措施和研究计划,但尚未提供资金。这一举措得到美国总统拜登的大力支持,他已呼吁为《美国芯片制造法案》拨款500亿美元。
在给国会领导人的信中,SIAC强调了这500亿美元的重要性,“美国建造并运营晶圆厂的成本相较海外高出20-40%,导致美国在全球半导体制造产能中的份额已从1990年的37%降至目前的12%。美国在吸引新的半导体制造设施或晶圆厂建设方面正处于竞争劣势。联邦政府在半导体研究方面的投资占GDP的比例长期持平,而其他国家的政府则大举投资于这些研究计划,以加强本国的半导体能力”。
“SIAC期待与国会和拜登政府合作,为国内半导体制造和研究提供必要的联邦投资,这样我们国家需要的更多芯片就会在本土生产。”他表示。
上周,美国汽车行业团体曾向拜登政府施压,要求其确保汽车工厂的芯片供应。美国汽车政策委员会(AAPC)、美国汽车和设备制造商协会(MEMA)以及美国汽车工人联合会(UAW)给国会写信,建议“为半导体设施提供专项资金,以便将其部分产能用于汽车级芯片的生产”。但SIAC在信中反对为某个特定行业留出新的产能,“当行业努力纠正目前造成短缺的供需失衡时,政府应避免干预”。
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