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光刻机技术一直是全球各国科技界研制的重点，各国能否在智能科技领域取得突破，光刻机技术的先进与否是问题的关键所在。
据媒体报道，日前，全球移动芯片巨头荷兰阿斯麦ASML公司正式宣布，公司已研制出第一代HMI多光速检测机。具体来看，这款HMI多光速检测机是一款全新的半导体技术，将主要用于以5nm为基础的芯片制程工艺，成功覆盖市场后，将有望极大提升5nm芯片的产能。
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众所周知，虽然目前我国在5G网络和智能科技领域的先进程度已经很高，但光刻机和芯片技术一直是我国科技界的短板。现阶段以台积电为首的国际大厂已经完成5nm、3nm及精度更高的研制工作，但中国国产芯片技术还停留在7nm和14nm阶段。所以这样看来，先进的光刻机技术在中国科技发展历程中起着至关重要的作用。
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据了解，目前ASML的多光速检测机技术已成功通过了相关的质量检测，接下来，ASML将加大在华地区的各项投资，加速新一代技术在中国市场的普及速度。5月14日，ASML已成功与江苏省无锡市高新区达成战略合作协议，双方合作成立了光刻机设备技术服务基地，这也是ASML在中国进行大规模产业扩张的开端。
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自去年开始，美国对中国科技企业实行限制令，给华为等中国品牌的长期发展造成了相当大的压力和阻碍作用，而有了ASML的加入，将能够在一定程度上缓解中国被限制后芯片紧缺的窘境。
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业界专家分析，虽然中国遭到了美国的长期限制，但中国科技的整体发展水平依然处于世界前列，半导体市场需求量很大，这将给ASML提供广阔的市场。对于现阶段急需产业扩张的ASML来说，进驻中国市场可谓是绝佳选择。同时，从此前各项统计数据来看，ASML作为国际大厂，每年生产的高端光刻机数量有限，大多都直接供给台积电、三星等知名品牌，而此次直接选择与在中国建立生产基地，则充分表现了ASML对中国市场的认可。
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具体来看，此次ASML进驻中国，将主要为中国市场提供光刻机的维护升级和相关技术服务，加紧完善光刻机技术的产业链，打造一体化的光刻机技术。从这一角度来讲，尽管ASML是全球首家高端光刻机技术生产厂商，但以中芯国际为首的中国企业似乎暂时很难能够从ASML中获取所需要的高端光刻机技术，中国企业想要在技术上与国际大厂比肩，还有一段很长的路要走。
正如前文所说，中国光刻机技术的研制水平与国际大厂相比仍有一定差距，近几年也主要以进口光刻机为主。但尽管如此，中国企业也并未停下技术研制的脚步。据官方数据显示，截至2018年12月，中国已拥有2400项光刻机专利技术。与此同时，以中芯国际为首的国产企业的规模也在不断壮大。6月1日，上海微电子宣布22nm光刻机已研制成功。按照这种趋势发展下去，所谓的限制令根本无法阻挡中国科技发展的脚步，我国真正实现光刻机国产化将只是时间问题。
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在技术和信息全球化加速发展的过程中，“地球村”的概念越来越适用，各国之间在生产技术、研发经验等方面的交流过程也就显得极其重要。经过近几年的不断沉淀和积累，中国已在5G、AI智能等领域取得了突破性成就，单单一个限制令并不能阻挡中国科技前景的步伐，相信在多方技术的倾力支持下，中国科技将拥有更广阔的未来。
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