真空蒸发镀膜法:就是将镀的基材放于真空镀膜机的电极上进行加热,使其蒸发变为气体,由于镀膜室处于真空状态,所以气体膜材的运输不会收到阻碍,最后沉积到基片表面,就形成了均匀的薄膜。

整个过程分为三个步骤:

1、膜材的蒸发过程,需要确立条件:膜材料的蒸发温度,膜材蒸发的最佳蒸汽压;膜材料的蒸发速率。

2、膜材料的蒸发过程逸出的迁移,所需确立条件:在镀膜过程中,要保持真空室内的真空度一直高于10-2Pa,真空度应该是一个适宜的固定值,并不是越高越好。

3、逸出的粒子到达基片表面成膜的过程,所需确立条件:适当提高蒸发速率有利于形成纯净度较高的膜。

真空镀膜设备验收标准(真空镀膜设备的简介及应用范围)(1)

真空镀膜的运作过程

其中拿溅射镀膜法来举例子:溅射镀膜法的原理是用荷能离子轰击靶材,将分子或者原子从靶材上激射下来最后成膜。如图所示

真空镀膜设备验收标准(真空镀膜设备的简介及应用范围)(2)

溅射镀膜运作过程

影响溅射产额的因素主要有:入射离子的能量大小、靶材的种类,入射离子种类、轰击离子的入射角以及靶材温度等。控制好靶材的种类能大大提高溅射产额。

该设备集磁控溅射与离子镀膜技术为一体,对提高颜色一致性、沉积速率及化合物成份的稳定性提供了解决方案。根据不同的产品需求,可选配加热系统、偏压系统、离化系统等装置,其靶位分布可灵活调整,膜层均匀性优越;配备不同的靶材,可镀制出性能更好的复合膜层。设备所镀制的膜层具有附着力强,致密性高的优点,可有效提高产品的耐盐雾性、耐磨性及产品表面硬度,满足了高性能膜层制备的需求。可适用于不锈钢、水镀五金件/塑胶件、玻璃、陶瓷等材质;可制备TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等金属化合物膜层;可实现深黑色、炉内金、玫瑰金、仿金、锆金、宝石蓝、亮银色等颜色。

设备主要用于电子产品五金件、高档钟表、高档首饰、品牌皮具五金件等。

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