众所周知，光刻机是制造芯片的核心设备，少了它制造先进的芯片就会有难度。但是，还有人不知道，制造芯片的过程中，另一个关键设备-蚀刻机，也很重要。这个设备和光刻机一样重要，曾经也被老美“卡脖子”，如今老美也堵不住这项技术，国产蚀刻机越来越先进了。
蚀刻机是芯片制造环节必不可少的设备，主要体现在它在制造环节的投资设备占比大，以及其工作原理在制造环节的不可或缺性。
1、蚀刻设备在晶圆厂的投资占比
了解半导体的人都知道，光刻机是芯片制造过程的核心设备，也是最难的部分。蚀刻机的技术也许达不到光刻机那样难，但它也是芯片制造重要的一个环节，也是少不了的部分。
如果看晶圆厂在蚀刻和光刻设备上的投资比（非购买费用）的话，光刻设备投资占比约为25%，而刻蚀设备的占比也约为25%。也就是说，蚀刻机的重要性和光刻机的重要性，在晶圆厂的投资设备的占比差不多。
2、蚀刻机的工作内容
蚀刻机主要由等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成，最主要的作用：光刻机把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上后，利用蚀刻机把不需要的地方给清除掉，只留下光刻过程中标注好的线路、图形等。
因此，在芯片制造环节中，光刻机完成了本身工作，就需要由蚀刻机来二次加工，形成一个完成的芯片制造工艺链。可以说，蚀刻机是光刻之后必不可少的设备，也是辅助光刻机工作的重要环节。
在半导体领域，像光刻机、刻蚀机、以及相关技术等，老美喜欢卡别人脖子。早在2015年以前，老美限制向国内出口等离子体刻蚀设备，也是为了阻止国内半导体企业的发展。
为了打破这一项技术被“卡脖子”问题，成立于2004年的中微半导体设备公司，开始着手研究蚀刻机，于2007年研发出第一代芯片蚀刻机，工作效率比外国顶尖产品还要高出30%。随着中微的技术不断地更新，2015年，其研发的等离子蚀刻机技术水平已达到世界先进水准，并且实现了量产，它的出现更是让全球蚀刻机降价。
2015年，老美看到国产的蚀刻机与世界先进水平相当，觉得再去禁售蚀刻机已经无意义。因此，2015年，老美商务部就取消了蚀刻机的禁售。
2015年，中微实现ICP等离子体刻蚀机的成功研发和量产后，该公司接连突破了28nm、22nm、7nm的先进制程。
2018年，中微公司改进了PrimoAD-RIE（2011年研制）蚀刻设备，并进入了5nm生产线。2019年，中微公司实现5nm蚀刻机生产，其生产的5nm设备于2020年进入台积电生产线，并取得台积电的认证（认证其技术先进）。
中微公司从65nm蚀刻机开始，到14/10/7nm再到5nm工艺节点，一直保持着与世界先进水平。但这还不够，2021年，中微公司对外介绍CCP 刻蚀设备产品时，说到：“为 65 纳米到 5 纳米及更先进工艺的芯片制造提供创新的解决方案 ”。5nm以上先进工艺，就是3nm\2nm等更高端的工艺节点了，这足以说明中微公司也已经在研制更高端的蚀刻机。
从2015年至今，国产蚀刻机越来越先进，在不断地创新和攻关，保持与世界水平同步的同时，更在追求领先世界的技术水平。
芯片是科技发展必不可少的部分，芯片制造工艺也是核心技术，是一个国家科技实力的表现。在整个产业里，国内很多技术都在逐一突破，甚至有的已经是国际先进水平。这些成就，都离不开国内科研人员的努力，也离不开一些愿意深入自研的科企，都是值得敬佩的。
所以说，如果有更多的科企加入到芯片产业链中，投入更多的研发，坚持自主研发，那么，国产芯片一定会更上一层楼。
对此，你怎么看呢？
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